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合成部門

当部門では、益々のスピードアップを要求される研究開発のお手伝いをするという基本方針のもと、30年前より受託合成及び受託製造を行っています。新規化合物の実験、スケールアップ製造への製造工程の確立、新規合成ルートによる製造など、多いにご利用下さい。

現場イメージ

受託合成の流れ

フロー図

設備一覧

1. 釜設備

1000L SUS 0℃〜120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン 1基
500L SUS -5℃〜20〜120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:水冷 1基
300L SUS 5℃〜120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン 1基
300L SUS 30℃〜250℃ 加熱:熱媒 冷却:外部水冷 2基
1000L GL -5℃〜120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン 1基
500L GL -5℃〜120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン 1基
200L GL -5℃〜120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン 2基
200L GL -5℃〜120℃ 加温:温水、スチーム 冷却:ブライン 1基

2. 反応装置

100L GL -60℃〜240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 組立式×1
100L SUS -60℃〜240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 組立式×1
50L GL -60℃〜240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 組立式×5
50L SUS -60℃〜240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 組立式×3
30L GL -60℃〜240℃ 加熱:電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却 冷媒 組立式×1

・20Lまでのガラス反応容器多数所有。
・30L〜100L(GL,SUS)までの組立式反応装置につきましては、随時新規で設置出来、専用釜として対応可能です。

3. 遠心分離機

24インチ SUS 遠心分離機 3基

4. ろ過器

65センチ SUS 減圧ろ過装置 6基
50センチ SUS 減圧ろ過装置 1基

5. カラム管

60cmφ SUS シリカゲル 100Kg 1基
50cmφ SUS シリカゲル 40Kg 2基
20cmφ SUS シリカゲル 10Kg 3基

6. 乾燥機

1m³ SUS 温風循環(電気) 4基
    真空加熱乾燥機 3基
    凍結乾燥機(VirTis) 1基

7. エバポレーター

2L   2L ロータリーエバポレーター 9基
10L   10L ロータリーエバポレーター 1基
20L   20L ロータリーエバポレーター 2基

実績例

光学活性化合物の合成 アシル化 アミノ化
アルキル化 アルキル金属の反応 エステル化
エーテル化 スルホン化 ヒドロキシル化
ホウ酸化 ニトロ化 金属水素化物の反応
Friedel-Crafts反応 Grignard反応 Horner-Emmons反応
suzuki反応 Wittig反応 Buchwald-Hartwing 反応

・未経験反応についても文献調査の上対応致します

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